대만 국가과학및기술위원회(NSTC)와 영국 기업·혁신·과학·무역부(BIST)가 대만시간 10월 2일 영국 런던에서 과학혁신기술협약(Science, Innovation and Technology Arrangement, 이하 SITA)을 공식 체결했다. 이번 협약은 주영 대만대표처 야오진샹 대표와 영국재대만판사처 루스 브래들리-존스 대표가 서명했으며, 천빙위 국과회 부주임위원과 데이브 스미스 영국 국가기술고문이 입회했다. 본 협약은 올해 런던에서 열린 우청원 국과회 주임위원과 영국 우주·사이버·규제개혁 장관 배러니스 로이드 간 고위급 회담의 공동 비전을 구체적 협력 행동으로 전환한 조치다.
협약 체결 직후 이어진 SITA 원탁회의에서는 핵심 추진 사업이 합의되었다. 우선 영국우주국(UKSA)과 대만국가우주센터(TASA) 간 위성통신 첨단 기술 공동 연구개발을 SITA의 대표 플래그십 성과로 추진하기로 합의했다. 아울러 차세대 반도체 발전 수요에 대응하여 영국 측이 종자 기금(시드 펀드)을 확보하고, 대만 국가실험연구원 산하 대만반도체연구센터(TSRI)의 지원으로 대만·영국 실리콘 포토닉스 학술연맹을 설립하기로 했다. 이를 통해 실리콘 포토닉스 학술 플랫폼을 구축하고 양국 학술 집적지를 연계해 인재 교류, 학술 워크숍, 공동 연구 공모를 추진한다.
| 협력 분야 | 참여 기관 | 협력 내용 |
|---|---|---|
| 위성통신 R&D | 영국우주국(UKSA) · 대만국가우주센터(TASA) | 위성통신 선행 기술 공동 연구개발 (SITA 플래그십 성과) |
| 실리콘 포토닉스 | 대만반도체연구센터(TSRI) · 영국 학술연맹 | 영국 시드 펀드 확보 및 실리콘 포토닉스 학술 플랫폼 구축 |
| 반도체 인재 육성 | 국과회(NSTC) · 대만반도체연구센터(TSRI) | 영국 석사생 연수 성과 계승 및 영국 연구인력 대만 방문 지원 |
반도체 인재 육성 부문에서는 앞서 영국 혁신기술부(DSIT)와 대만 외교부(MOFA) 간 체결된 인재 양성 양해각서(MOU)를 토대로 첫 영국 석사과정 연구생들의 대만 연수 성과를 확인했다. 국과회와 대만반도체연구센터(TSRI)는 해당 프로그램을 지속 지원하여 영국 과학기술 연구진의 대만 방문 및 연수를 체계적으로 마련하기로 했다. 국과회는 이번 실시 계획을 통해 핵심 과학기술 연구개발을 진전시키고 지속가능한 인재 파이프라인을 구축해 양국 연구 공동체를 한층 강화한다는 방침이다.
천빙위 국과회 부주임위원은 체결식 축사에서 이번 협약 체결이 대만과 영국의 과학기술 협력을 제도화하는 중요한 진전이라며, 구체적인 협력 계획을 통해 양국이 과학과 기술 분야에서 지닌 강점을 상호 보완할 수 있다고 밝혔다. 이어 SITA 협력 틀 안에서 양국이 협력을 지속적으로 심화함으로써 핵심 전략 기술 분야의 글로벌 경쟁력과 공급망 회복력을 끌어올릴 것이라고 전망했다.
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